[发明专利]一种光谱椭偏测量带宽和数值孔径退偏效应修正建模方法及装置有效
| 申请号： | 201911421523.2 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111209661B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 张传维;刘贤熠;郭春付;李伟奇;刘世元 | 申请（专利权）人： | 武汉颐光科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F17/16;G06F17/18;G01B11/00;G01B11/06;G01B21/04;G01N21/21;G01N21/27 |
| 代理公司： | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人： | 谢洋 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光谱椭偏测量带宽和数值孔径退偏效应修正建模方法及装置。通过穆勒矩阵椭偏仪测量，一次获得待测样品的全部穆勒矩阵元素，进而获得样品的退偏信息。通过合理假设带宽和数值孔径的分布函数，组合不同的分布下的节点和权重累加得到样品正向建模平均穆勒矩阵。当带宽和数值孔径的分布随机，均采用高斯分布的节点和权重，将二维计算简化成一维计算，大大提高计算效率。最后通过非线性回归算法拟合提取待测样品参数的光学常数和厚度值等信息。本发明可以实现光谱椭偏测量带宽和数值孔径退偏效应的修正，对各种光学薄膜器件，以及各种纳米制造过程中在线测量的快速数据分析，提取纳米材料光学和集合参数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 测量 带宽 数值孔径 效应 修正 建模 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉颐光科技有限公司，未经武汉颐光科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911421523.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
