[发明专利]一种抛光设备在审
| 申请号： | 201911422735.2 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN110962022A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 杨兆明;颜凯;中原司 | 申请（专利权）人： | 浙江芯晖装备技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B29/02;B24B41/06;B24B53/007;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴市海宁市海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光设备。该抛光设备，包括上下料工位、转接工位和抛光清洗工位，上下料工位上设置有上料盒和下料盒；转接工位上设置有第一机械手、定位机构和清洗干燥机构，第一机械手能够将上料盒内的硅片取出并转移至定位机构进行定位，且能够将清洗干燥机构上的硅片转移至下料盒内；抛光清洗工位上设置有第二机械手、抛光装置和清洗装置，第二机械手能够将定位机构上已定位的硅片转移至抛光装置进行抛光，清洗装置能够对抛光后的硅片进行清洗，将抛光作业和清洗作业置于同一工位，能够提高良品率；第二机械手能够将抛光装置上的硅片转移至清洗干燥机构进行清洗干燥，实现硅片的干进干出，提高作业效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江芯晖装备技术有限公司，未经浙江芯晖装备技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911422735.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
