[发明专利]一种垂向支撑组件、垂向支撑装置以及光刻机有效
| 申请号： | 201911423910.X | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN113126444B | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 程国苗;胡玉龙;申楠楠;董浩;李新振 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种垂向支撑组件、垂向支撑装置以及光刻机，包括：补偿磁块组以及调节磁块组，所述补偿磁块组包括第一补偿磁块与第二补偿磁块，所述第一补偿磁块与所述第二补偿磁块的充磁方向相反，所述第一补偿磁块沿垂向间隔设置于所述第二补偿磁块的上方；所述调节磁块组用以对所述补偿磁块组施加调节磁场；所述补偿磁块组用于承载垂向的且在预设范围内的作用力，在所述调节磁场的调节下，所述第一补偿磁块与所述第二补偿磁块之间的间距与所述作用力呈线性关系。如此配置，解决了补偿磁块组在一定范围内输出的重力补偿力不稳定，不成线性关系的问题，为掩膜设备实现垂向大闭环做准备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 支撑 组件 装置 以及 光刻 | ||
【主权项】：
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