[发明专利]一种紫外高反射率的复合电极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911424903.1 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111129257B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 易翰翔;李玉珠;武杰;张洪安;陈慧秋 申请(专利权)人: 广东德力光电有限公司
主分类号: H01L33/46 分类号: H01L33/46;H01L33/42
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 颜希文
地址: 529000 *** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种紫外高反射率的复合电极,包括N型层、设于所述N型层上方的量子阱及设于所述量子阱上方的P型层,所述P型层上方设有多个独立的ITO圆柱,所述ITO圆柱表面设有连续的Al薄膜。本申请复合电极中,通过ITO圆柱图形化及纯Al薄膜的搭配设计,大大改善了电流扩展效果,减少ITO吸光面积,减少反射路径和路经的吸光层;形成纯Al+DBR的复合反射层,大大提高反射率。同时,本发明还公开一种所述紫外高反射率的复合电极的制备方法。
搜索关键词: 一种 紫外 反射率 复合 电极 及其 制备 方法
【主权项】:
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