[发明专利]修复剂及其应用

摘要

本发明涉及一种修复剂，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于形成修复层，辐射制冷膜的热反射率为m1、热吸收率为n1，包括所述修复层的辐射制冷膜的热反射率为m2、热吸收率为n2，m2‑m1的差值为x，x≥‑5％、n2‑n1的差值为y，y≤3％。该修复剂与辐射制冷膜的受损处通过形成化学键，而与辐射制冷膜之间具有良好的附着力，且不影响辐射制冷膜的制冷效果。