[发明专利]一种分离式相控空化增强磨粒微射流抛光系统有效
| 申请号： | 201911425998.9 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111152139B | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 葛江勤;陈洁;周晖;高佳文 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | B24C3/02 | 分类号： | B24C3/02;B24C1/08;B24C5/00;B24C5/04;B24C9/00 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 吴秉中 |
| 地址： | 310000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种分离式相控空化增强磨粒微射流抛光系统，包括多通道相控发射系统、六自由度移动平台、抛光工具、加工工件、工件安装平台、加工池、低粘性磨粒流、上位机控制系统、变频器、柱塞式水泵、磨粒流注入管路系统、安全管路系统、磨粒流输出管路系统，抛光工具包括固定本体、接线端盖、中部连接件、相控聚焦装置、角度调节件、微射流喷嘴、磨粒流注入口、喷嘴夹具。本发明利用相控聚焦原理产生声波聚焦空化，并将微射流喷嘴和相控聚焦装置进行分离设计，根据需求对空化强度、射流强度进行单独调节；通过调节多通道相控发射系统的声波频率和功率，可对空泡尺度、空化强度进行主动控制，实现微射流抛光效率的增强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分离 式相控空化 增强 磨粒微 射流 抛光 系统 | ||
【主权项】：
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