[发明专利]一种基于相控空化效应的磨粒微射流抛光方法及抛光装置有效
| 申请号： | 201911426168.8 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111085942B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 葛江勤 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B24C3/02;B24C5/00 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 吴秉中 |
| 地址： | 310000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于相控空化效应的磨粒微射流抛光方法，该方法将相控声波聚焦原理引入到磨粒微射流抛光领域，通过调节声波发射频率和功率、激励脉冲相位延迟时间，可实现在不改变喷嘴距离工件表面高度以及微射流流速等工艺参数的情况下，对空泡尺度、空化强度以及空泡群溃灭冲击区域位置的单独控制。本发明还提供了一种基于相控空化效应的磨粒微射流抛光装置，该装置采用锥形射流腔体对空化发生装置与射流装置进行耦合设计，可在机械手或六自由度移动平台的驱动下，完成微结构、复杂曲面零件的抛光。相比于其他空化辅助流体抛光方法，本发明可实现以单一变量控制的方式灵活调控空泡溃灭对磨粒‑壁面冲击动能的增强程度，避免发生空蚀破坏，保证工件表面空化冲击的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 相控空化 效应 磨粒微 射流 抛光 方法 装置 | ||
【主权项】：
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