[实用新型]一种化学反应过程控制仿真实训装置有效
申请号: | 201920013956.3 | 申请日: | 2019-01-04 |
公开(公告)号: | CN209379037U | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 赵欣;刘群;陈波;矫桂鹅;鲁家浩;孙涵;周艳华;周萍 | 申请(专利权)人: | 赵欣 |
主分类号: | B01L9/02 | 分类号: | B01L9/02 |
代理公司: | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人: | 邢江峰 |
地址: | 200000*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座、操作柜底座和单拼台工作台,所述控制柜底座的上侧端面安装有综合显示屏控制器,所述控制柜底座的上侧端面接近综合显示屏控制器的一侧安装有DCS控制器,所述DCS控制器的一侧安装有PLC综合控制器。在整体的结构与控制系统中,采用PLC控制柜与DCS控制柜进行结合,通过PLC综合控制器的控制,可进行切换不同的控制系统,并且可以根据完整的化学反应过程的流程进行控制,通过灵活构建DCS控制系统与PLC综合控制器的结合使得教学的范围更加广泛,并且能够通过相应的控制效果进行重复性的对比,提高整个化学反应的流程的可控制性。整体实用强,使用的效果相对于传统方式更好。 | ||
搜索关键词: | 化学反应过程 控制柜底座 综合控制器 仿真实训装置 综合显示屏 控制系统 上侧端面 控制器 化学反应 本实用新型 传统方式 可控制性 控制效果 操作柜 工作台 构建 底座 灵活 教学 | ||
【主权项】:
1.一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座(1)、操作柜底座(2)和单拼台工作台(3),其特征在于:所述控制柜底座(1)的上侧端面安装有综合显示屏控制器(4),所述控制柜底座(1)的上侧端面接近综合显示屏控制器(4)的一侧安装有DCS控制器(5),所述DCS控制器(5)的一侧安装有PLC综合控制器(6),所述PLC综合控制器(6)的一侧设置有排热扇孔(7),所述控制柜底座(1)通过线缆走线槽(8)与操作柜底座(2)的一侧相连,所述单拼台工作台(3)的上侧端面设置有试剂瓶放置工作台(9),所述试剂瓶放置工作台(9)的上侧端面放置有仿真用试剂瓶(10),所述单拼台工作台(3)通过相互拼接组成仿真立体框架组(11),所述仿真立体框架组(11)的一侧安装有滞后水箱温度框架(12),所述滞后水箱温度框架(12)的一侧安装有锅炉温度框架(13),所述锅炉温度框架(13)的一次安装有缓冲罐压力框架(14),所述单拼台工作台(3)的安装有单向滑动导轮(15),所述单拼台工作台(3)的一侧安装有平台卡件(16),所述单拼台工作台(3)的一侧安装有试剂瓶衔接板(17),所述单拼台工作台(3)活动安装在操作柜底座(2)的上端面工作台(18)上。
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