[实用新型]一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置有效
| 申请号： | 201920017266.5 | 申请日： | 2019-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN209044565U | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 万彬;熊强;黎敏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置，用以顺利制作SLOC产品的低温保护层。掩膜板用于制作黑矩阵和间距测试平台，包括：第一透光区、第二透光区和非透光区；第一透光区设置在需要制作黑矩阵的位置；第二透光区设置在需要制作间距测试平台的位置；间距测试平台用于在采用近接式曝光机制作待制作膜层时，遮挡待制作膜层下方的金属走线。在采用近接式曝光机制作待制作膜层时，由于间距测试平台能够遮挡待制作膜层下方的金属走线，因此，间距测试平台的设置可以有效遮挡待制作膜层下方的金属走线，避免金属走线反光对近接式曝光的影响，可以顺利制作SLOC产品的待制作膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 膜层 测试平台 金属走线 透光区 近接式曝光 掩膜板 遮挡 彩膜基板 显示面板 显示装置 黑矩阵 低温保护层 非透光区 反光 申请 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，用于制作黑矩阵和间距测试平台，其特征在于，包括第一透光区、第二透光区和非透光区；所述第一透光区设置在需要制作黑矩阵的位置；所述第二透光区设置在需要制作间距测试平台的位置；所述间距测试平台用于遮挡待制作膜层下方的金属走线。
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