[实用新型]双离子束共溅射纳米膜设备

摘要

本实用新型公开一种双离子束共溅射纳米膜设备，包括：真空室、左右侧离子源、工件组件、左右侧靶台、辅源、抽气系统、膜厚测量仪等组成。由于采用二个溅射主源、二个靶台、一个辅源，可一直性安装最多八种靶材，实现不破坏真空的情况下连续溅射制备多层薄膜。同时由于有辅源的存在，可在薄膜制备前对镀膜工件进行原位剥离清洗，使得膜质吸附能力强、均匀性好、致密、内应力小，薄膜质量大大提高。

主权项

1.一种双离子束共溅射纳米膜设备，其特征在于，包括：真空室（1），一种金属壳体，本底真空不低于1×10^‑5Pa；左侧离子源（3）和右侧离子源（2），分别安装在所述真空室（1）的左右上方，是一种聚焦离子源，可产生聚焦的左侧离子束（31）和右侧离子束（21）；工件组件（4），安装在所述真空室（1）的正上方，由电机驱动旋转轴（41），实现安装在所述旋转轴（41）下部的镀膜工件（42）行星旋转；左侧靶台（5）和右侧靶台（6），分别安装在所述真空室（1）的左右中部位置，所述左侧离子束（31）和右侧离子束（21）正好聚焦在左侧靶台（5）和右侧靶台（6）上表面；辅源（7），安装在所述真空室（1）的正后下方，能发射平行或发散辅源离子束（71），对准镀膜工件（42）进行原位剥离清洗；膜厚测量仪（9），安装在镀膜工件（42）位置的侧位，对沉积在所述镀膜工件（42）上表面的薄膜进行膜厚测量；抽气系统（8），安装在所述真空室（1）的正下方，并与所述真空室（1）连通，对真空室（1）抽真空。