[实用新型]缺陷检测设备有效
| 申请号： | 201920090842.9 | 申请日： | 2019-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN209911251U | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 李新连;郭逦达;杨立红 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;H01L21/66 |
| 代理公司： | 11477 北京尚伦律师事务所 | 代理人： | 孟姣 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型是关于一种缺陷检测设备，用于对完成刻划工艺的待测基板进行缺陷检测。所述待测基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的背电极层，所述设备包括：光源组件，用于提供光照，所述光源组件包括第一光源；采集装置，用于在所述第一光源发光时，采集所述第一光源透过所述待测基板形成的第一图像数据；处理装置，与所述采集装置相连接，用于根据所述第一图像数据反映的对应于各个刻划位置的光学参数分析所述待测基板是否存在缺陷。该技术方案可对完成刻划工艺的基板进行检测，以确保流入后续产线的产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 待测基板 刻划 光源 采集装置 衬底基板 光源组件 图像数据 缺陷检测设备 本实用新型 背电极层 产品良率 处理装置 光学参数 缺陷检测 产线 基板 光照 发光 采集 检测 分析 | ||
【主权项】：
1.一种缺陷检测设备，用于对完成刻划工艺的待测基板进行缺陷检测，其特征在于，所述待测基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的背电极层；所述设备包括：/n光源组件，用于提供光照，所述光源组件包括第一光源；/n采集装置，用于在所述第一光源发光时，采集所述第一光源透过所述待测基板形成的第一图像数据；/n处理装置，与所述采集装置相连接，用于根据所述第一图像数据反映的对应于各个刻划位置的光学参数分析所述待测基板是否存在缺陷。/n
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