[实用新型]一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置有效
| 申请号： | 201920096195.2 | 申请日： | 2019-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN209873098U | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 杨福年;郑锡文 | 申请（专利权）人： | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/455 |
| 代理公司： | 44351 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 韩绍君 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，包括与PECVD设备连接的通气固定底座，通气固定底座的中心轴向上延伸一段并向外展开形成有伞型锥状支撑体，伞型锥状支撑体上端连接有分散座与多个分散片，多个分散片均匀分散连接在分散座的外表面，通气固定底座上在中心轴外周围设置有多个通气孔，分散座内为中空的并通过连接片连接设置在分散座中心的中心通孔座，多个分散片的底部倾斜角度设置为分散片与分散座的中心轴线方向呈5‑35度。本实用新型通过伞型锥状支撑体和多个分散片的设置，有益气体快速有效分散进入真空腔蒸汽，确保工件表面纳米防水膜均匀分布，该分散装置可以长期耐180℃高温环境工作，结构设计紧凑合理，方便拆装与维护。 | ||
| 搜索关键词： | 分散片 锥状支撑体 固定底座 伞型 通气 本实用新型 分散装置 中心轴 底部倾斜 方便拆装 高温环境 工件表面 角度设置 连接设置 向上延伸 有效分散 中心通孔 中心轴线 装置真空 上端 防水膜 连接片 通气孔 真空腔 中空的 汽体 腔内 蒸汽 紧凑 维护 | ||
【主权项】：
1.一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，其特征在于，包括与PECVD设备连接的通气固定底座，所述通气固定底座的中心轴向上延伸一段并向外展开形成有伞型锥状支撑体，所述伞型锥状支撑体上端连接有分散座与多个分散片，所述多个分散片均匀分散连接在分散座的外表面，所述通气固定底座上在中心轴外周围设置有多个通气孔，所述分散座内为中空的并通过连接片连接设置在分散座中心的中心通孔座，所述多个分散片的底部倾斜角度设置为分散片与分散座的中心轴线方向呈5-35度。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市和域战士纳米科技有限公司，未经东莞市和域战士纳米科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920096195.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
