[实用新型]一种带有沟槽结构的高压宽禁带二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201920122961.8 申请日: 2019-01-24
公开(公告)号: CN209216978U 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 黄兴;陈欣璐 申请(专利权)人: 派恩杰半导体(杭州)有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/861
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310053 浙江省杭州市滨江区浦*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种带有沟槽结构的高压宽禁带二极管芯片。本实用新型通过在有源区和结终端区域引入统一的沟槽结构,使得芯片可以用同一套工艺实现两个区域的加工,大大降低产品加工成本。
搜索关键词: 沟槽结构 本实用新型 二极管芯片 宽禁带 产品加工成本 工艺实现 结终端 源区 芯片 引入 加工 统一
【主权项】:
1.一种带有沟槽结构的高压宽禁带二极管芯片,其特征在于,包括:底部阴极电极层(001),重掺杂N型半导体材料层(002),轻掺杂的N型半导体材料层(003),从表面伸入轻掺杂的N型半导体材料层(003)的沟槽结构(004);所述沟槽结构(004)的底部与侧壁被P型半导体材料(005)包围;所述高压宽禁带二极管芯片分为有源区(A1)与结终端区域(A2),在有源区(A1)顶部设有阳极电极层(006),在结终端区域(A2)顶部设有钝化层(007)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于派恩杰半导体(杭州)有限公司,未经派恩杰半导体(杭州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920122961.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top