[实用新型]一种二次曝光治具有效
| 申请号： | 201920175596.7 | 申请日： | 2019-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN209433183U | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 卢志强 | 申请（专利权）人： | 上海新倬壮印刷科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201613 上海市松江区漕河*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型克服了现有技术存在的不足，提供了一种二次曝光治具，保证图案副栅线位置不接触紫外线光，完成图案显像；为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种二次曝光治具，包括治具本体，所述治具本体呈板状结构，所述治具本体下方设置有多个垫块，所述垫块呈立方体结构，多个所述垫块沿治具本体的边沿分布，并配合治具本体在治具本体上侧形成一个曝光腔体；本实用新型可广泛应用于精密丝网印刷领域。 | ||
| 搜索关键词： | 治具本体 本实用新型 二次曝光 垫块 治具 立方体结构 图案 板状结构 精密丝网 曝光腔体 紫外线光 不接触 副栅线 显像 印刷 应用 配合 保证 | ||
【主权项】：
1.一种二次曝光治具，其特征在于，包括治具本体（1），所述治具本体（1）呈板状结构，所述治具本体（1）下方设置有多个垫块（2），所述垫块（2）呈立方体或圆柱体结构，多个所述垫块（2）沿治具本体（1）的边沿分布，并配合治具本体（1）在治具本体（1）下方形成一个曝光腔体。
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