[实用新型]一种掩膜版组件以及蒸镀装置有效
| 申请号： | 201920182080.5 | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN209722271U | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 邱少亚;陈凯凯;卢贝贝 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 孟金喆<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种掩膜版组件以及蒸镀装置。该掩膜版组件包括：框架、支撑片、掩膜版以及遮蔽片，支撑片设置在框架靠近掩膜版的一侧，遮蔽片设置在支撑片远离框架的一侧，支撑片用于支撑掩膜版和遮蔽片，掩膜版包括至少一个开口区，开口区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，遮蔽片包括至少一个有效遮蔽区，有效遮蔽区在掩膜版上的垂直投影与无效蒸镀区重合，其中，掩膜版的开口区的无效蒸镀区与遮蔽片的有效遮蔽区一一对应。本实用新型提供的技术方案可以减小遮蔽片由于重力作用带来的下垂量，进而缓解蒸镀过程中的阴影效应，提高蒸镀精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 遮蔽片 蒸镀 支撑片 开口区 遮蔽区 本实用新型 垂直投影 阴影效应 蒸镀装置 重力作用 组件包括 下垂量 重合 减小 缓解 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版组件，其特征在于，包括：框架、支撑片、掩膜版以及遮蔽片；/n所述支撑片设置在所述框架靠近所述掩膜版的一侧；所述遮蔽片设置在所述支撑片远离所述框架的一侧；/n所述支撑片用于支撑所述掩膜版和所述遮蔽片；/n所述掩膜版包括至少一个开口区，所述开口区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，所述遮蔽片包括至少一个有效遮蔽区，所述有效遮蔽区在所述掩膜版上的垂直投影与所述无效蒸镀区重合；/n其中，所述掩膜版的开口区的无效蒸镀区与所述遮蔽片的有效遮蔽区一一对应。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司，未经上海和辉光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920182080.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于手机TYPE-C充电接口的PVD治具
- 下一篇：一种光学玻璃镀膜工装
- 同类专利
- 专利分类
