[实用新型]一种射频放电系统及其法拉第屏蔽结构有效
| 申请号： | 201920193276.4 | 申请日： | 2019-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN209282164U | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 高飞;王友年 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 张德才 |
| 地址： | 116000 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种射频放电系统及其法拉第屏蔽结构，所述射频放电系统的金属腔室壳体通过内介质桶和外介质桶与金属盖板密封连接，所述金属盖板上设有进气口，所述外介质桶套设在所述内介质桶外侧，所述外介质桶外侧绕设有放电线圈，所述内介质桶和所述外介质桶之间设有法拉第屏蔽桶，所述法拉第屏蔽桶与所述金属腔室壳体和所述金属盖板连接。本实用新型解决了内置法拉第屏蔽桶的等离子体刻蚀轰击溅射难题；避免了内置法拉第屏蔽桶因为刻蚀、溅射，金属离子再次在功率耦合窗口沉积而导致的降低射频功率耦合效率的问题；还解决了外置法拉第屏蔽桶的放电线圈与法拉第屏蔽桶之间因距离过近而易出现的高压打火击穿的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 法拉第屏蔽 金属盖板 射频放电 内介质 本实用新型 放电线圈 金属腔 室壳体 溅射 内置 进气口 等离子体刻蚀 高压打火 功率耦合 金属离子 密封连接 射频功率 耦合效率 沉积 轰击 击穿 刻蚀 桶套 外置 | ||
【主权项】：
1.一种射频放电系统用法拉第屏蔽结构，其特征在于：所述射频放电系统的金属腔室壳体通过内介质桶和外介质桶与金属盖板密封连接，所述金属盖板上设有进气口，所述外介质桶套设在所述内介质桶外侧，所述外介质桶外侧绕设有放电线圈，所述内介质桶和所述外介质桶之间设有法拉第屏蔽桶，所述法拉第屏蔽桶与所述金属腔室壳体和所述金属盖板连接。
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