[实用新型]一种铜萃取电积系统中降低电解液高价离子氧化性的装置有效
| 申请号： | 201920205539.9 | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN209636329U | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 杨明华;程进辰;周振国;汤红初 | 申请（专利权）人： | 江西自立环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12;C25C7/06 |
| 代理公司： | 36115 南昌新天下专利商标代理有限公司 | 代理人： | 李炳生<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 344000江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种铜萃取电积系统中降低电解液高价离子氧化性的装置，包括电解液储槽、高位放置平台、还原接触槽和中转槽，还原接触槽置于高位放置平台上，还原接触槽的内顶壁及内底壁沿长度方向上交错设置有隔板，在还原接触槽内设有还原料，电解液储槽的出口经管道及泵与还原接触槽的入口连接，还原接触槽的出口经管道与中转槽连接。本实用新型在电解液反萃液前，利用废铜料对电解液进行还原处理，降低了电解液中高价具有强氧化性的金属离子，降低了萃取剂因电解液中高价金属离子的氧化而产生的降解，起到了保护萃取剂的作用，此外，还原接触槽内的液体采用自流式的方式进入中转槽中，减少了泵的中转，节约能耗。 | ||
| 搜索关键词： | 接触槽 还原 电解液 中转槽 本实用新型 电解液储槽 高位放置 萃取剂 高价金属离子 隔板 电积系统 高价离子 还原处理 交错设置 金属离子 强氧化性 入口连接 反萃液 内底壁 内顶壁 铜萃取 氧化性 自流式 废铜 降解 出口 能耗 节约 | ||
【主权项】：
1.一种铜萃取电积系统中降低电解液高价离子氧化性的装置，包括电解液储槽(1)、高位放置平台(2)、还原接触槽(3)和中转槽(5)，其特征在于，还原接触槽(3)置于高位放置平台(2)上，还原接触槽(3)的内顶壁及内底壁沿长度方向上交错设置有隔板(9)，在还原接触槽(3)内设有还原料(10)，电解液储槽(1)的出口经管道及泵(4)与还原接触槽(3)的入口连接，还原接触槽(3)的出口经管道与中转槽(5)连接。/n
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