[实用新型]一种硅片退火炉有效

专利信息
申请号: 201920239110.1 申请日: 2019-02-21
公开(公告)号: CN210575848U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 颜廷福 申请(专利权)人: 青岛福润德微电子设备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/324
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266000 山东省青岛*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开一种硅片退火炉,其包括机架、反应室、设置反应室内的退火炉体和气源柜,退火炉体设置为两个,加热和供气均为单独控制,反应室正上方罩设有排风罩,退火炉体的中部为核心区段,两端为预热区段,各区段加热均为单独控制,退火炉体进气端设置有均风板,另一端设置吸风盘,吸风盘设置有排风孔,吸风盘内设置风道连通排风孔,风道出口端朝向排风罩设置,吸风盘外侧盘面上设置有多条通风槽,每条通风槽与反应室壁上设置的通风孔对应。该退火炉为双炉体单独控温设置,且能够实现保护气体的均匀分布,炉体分区控温进一步提升退火温度的稳定性,提升了硅片的退火品质,另外该退火炉可及时排出多余保护气体,防止散失到环境中污染环境。
搜索关键词: 一种 硅片 退火炉
【主权项】:
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