[实用新型]一种集成肖特基二极管的平面型场效晶体管有效
申请号: | 201920251219.7 | 申请日: | 2019-02-27 |
公开(公告)号: | CN209199945U | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 叶荣辉 | 申请(专利权)人: | 四川美阔电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/06 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 张严芳 |
地址: | 629000 四川省遂宁市经济技术开发区玉龙*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种集成肖特基二极管的平面型场效晶体管,解决了现有金氧半场效晶体管在应用于高压或高速切换频率时,制作成本高,增加漏电流,降低金氧半场效晶体管的稳定性,产品的结构复杂,产品体积大且良率低的问题。本实用新型包括基板,所述基板的上表面设置有磊晶层,所述磊晶层上形成有第一介电层,所述第一介电层的部分表面形成有至少一个闸极,未被闸极覆盖的所述磊晶层上掺杂形成有至少一个本体,所述本体的部分区域掺杂形成有至少一个源极区,所述第一介电层和所述闸极上形成有第二介电层,所述第二介电层上设置有源极,所述基板、磊晶层、本体及源极区均为半导体。本实用新型具有排除累计电荷快,产品构造简单及体积小等优点。 | ||
搜索关键词: | 介电层 磊晶层 本实用新型 基板 闸极 金氧半场效晶体管 肖特基二极管 场效晶体管 平面型 源极区 表面形成 产品构造 高速切换 区域掺杂 电荷 漏电流 上表面 体积小 良率 源极 半导体 掺杂 覆盖 制作 应用 | ||
【主权项】:
1.一种集成肖特基二极管的平面型场效晶体管,其特征在于,包括基板(11),所述基板(11)的上表面设置有磊晶层(13),所述磊晶层(13)上形成有第一介电层(171),所述第一介电层(171)的部分表面形成有至少一个闸极(16),未被闸极(16)覆盖的所述磊晶层(13)上掺杂形成有至少一个本体(14),所述本体(14)的部分区域掺杂形成有至少一个源极区(15),所述第一介电层(171)和所述闸极(16)上形成有第二介电层(173),所述第二介电层(173)上设置有源极(18),所述基板(11)、磊晶层(13)、本体(14)及源极区(15)均为半导体材料。
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