[实用新型]磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201920255138.4 | 申请日： | 2019-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN210104059U | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;汪振南;见东伟;杨永雷 | 申请（专利权）人： | 领凡新能源科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京智晨知识产权代理有限公司 11584 | 代理人： | 张婧 |
| 地址： | 101407 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种磁控溅射靶，所述磁控溅射靶包括靶头、靶芯主体、靶材筒，所述靶芯主体容置在所述靶材筒内，所述靶头与所述靶芯主体连接；所述磁控溅射靶还包括：冷却结构，所述靶头上设有第一口和第二口，所述冷却结构包括相互连通的第一腔和第二腔，所述第一腔位于所述靶芯主体内部，所述第二腔位于所述靶材筒与所述靶芯主体之间，所述第一腔与所述靶头上的所述第一口连通，所述第二腔与所述靶头上的所述第二口连通。所述磁控溅射靶具有较好的冷却效果，能够提高磁控溅射靶的运行稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 | ||
【主权项】：
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