[实用新型]一种抛光垫的清洗装置有效
申请号: | 201920265330.1 | 申请日: | 2019-03-01 |
公开(公告)号: | CN209613638U | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 张泽芳;巩强 | 申请(专利权)人: | 上海映智研磨材料有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04 |
代理公司: | 南京思拓知识产权代理事务所(普通合伙) 32288 | 代理人: | 苗建 |
地址: | 201802 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种抛光垫的清洗装置,包括清洗盘、引流管和若干个刷头,所述清洗盘的内部设有空腔,其顶表面设有内凹槽,所述内凹槽的横截面呈圆形,且所述内凹槽的直径r大于抛光机上盘的直径R,内凹槽的深度h小于或者等于抛光机上盘的厚度H;所述清洗盘顶表面上远离凹槽处或者侧壁上还设有与所述空腔连通的进水孔;所述清洗盘的底表面上设有若干个与所述空腔相连通的出水孔;所述引流管的一端与所述清洗盘顶表面上的进水孔相连通,另一端用于连接水源;所有刷头均设于所述清洗盘的底表面上,且垂直于所述清洗盘的底表面设置。本实用新型避免了人工操作的不可控性,大大提高了清洗抛光垫的效率,而且节约用水。 | ||
搜索关键词: | 清洗盘 内凹槽 顶表面 本实用新型 清洗装置 进水孔 抛光垫 抛光机 引流管 上盘 刷头 表面设置 节约用水 空腔连通 清洗抛光 人工操作 凹槽处 出水孔 侧壁 空腔 控性 垂直 水源 | ||
【主权项】:
1.一种抛光垫的清洗装置,其特征在于,包括:清洗盘,所述清洗盘的内部设有空腔,其顶表面设有内凹槽,所述内凹槽的横截面呈圆形,且所述内凹槽的直径r大于抛光机上盘的直径R,内凹槽的深度h小于或者等于抛光机上盘的厚度H;所述清洗盘顶表面上远离凹槽处或者侧壁上还设有与所述空腔连通的进水孔;所述清洗盘的底表面上设有若干个与所述空腔相连通的出水孔;引流管,所述引流管的一端与所述清洗盘顶表面上的进水孔相连通,另一端用于连接水源;若干个刷头,各刷头均设于所述清洗盘的底表面上,且垂直于所述清洗盘的底表面设置。
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