[实用新型]一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘有效
申请号: | 201920295875.7 | 申请日: | 2019-03-08 |
公开(公告)号: | CN209941087U | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 龚闯;吴剑波;朱长征;余斌 | 申请(专利权)人: | 上海征世科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/458;C23C16/27 |
代理公司: | 31253 上海精晟知识产权代理有限公司 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 201799 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘,包含一呈圆形的微波等离子体基片台,所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘,所述托盘的上方放置含金属成分的刀具,利用微波激发的等离子体,在刀具表面沉积CVD金刚石膜,所述托盘上表面有多个圆柱状或者圆台状凸起,含金属成分的刀具放置在突起物的间隙。利用微波等离子体(MPCVD)方法,在含金属成分的刀具表面沉积均匀金刚石膜。涉及通过对刀具托盘表面凸起的设计,减少微波场中含金属成分的刀具因为尖端放电而导致表面沉积金刚石膜不均匀性的影响,提高MPCVD法在含金属成分的刀具表面沉积均匀金刚石膜的方法。刀具托盘表面形状的改造成本低廉,操作简便。 | ||
搜索关键词: | 刀具 托盘 金刚石膜 沉积 微波等离子体 金属 刀具表面 托盘表面 等离子体 本实用新型 托盘上表面 圆台状凸起 表面沉积 不均匀性 刀具放置 尖端放电 微波激发 基片台 突起物 微波场 圆柱状 凸起 改造 | ||
【主权项】:
1.一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘,其特征在于,包含一呈圆形的微波等离子体基片台,所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘,所述托盘的上方放置含金属成分的刀具,利用微波激发的等离子体,在刀具表面沉积CVD金刚石膜,所述托盘的上表面设有多个圆柱状或者圆台状凸起,含金属成分的刀具放置在突起物的间隙。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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