[实用新型]一种微波等离子体化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201920302296.0 | 申请日： | 2019-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN209636319U | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 吴啸;闫宁;赵延军;范波;郭兴星;徐帅;常豪锋;蔡玉珺 | 申请（专利权）人： | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513 |
| 代理公司： | 41104 郑州联科专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 王聚才<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 450001河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括机架和升降放取机构，升降放取机构包括支撑座及置于支撑座上的支撑底板，且支撑底板与支撑座沿水平方向滑动配合；支撑底板上方还设有用于放置沉积物的石英钟罩，实现石英钟罩伴随支撑底板在竖直方向上的升降。该微波等离子体化学气相沉积装置，通过升降放取机构、支撑座以及与支撑座水平滑动配合的支撑底板的结构布设，使放样、取样过程中操作空间不再受限制，放样、取样过程简单无妨碍，可有效的避免由于操作空间有限而导致损坏石英钟罩情况的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑底板 支撑座 石英钟罩 升降 微波等离子体化学气相沉积 操作空间 取样过程 放样 沉积物 滑动配合 水平滑动 受限制 布设 竖直 配合 | ||
【主权项】：
1.一种微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：包括机架和升降放取机构；/n机架的顶部架设有上底板、谐振腔和升降装置，上底板上开有通孔，且升降装置固设于上底板上，谐振腔布设于上底板的通孔处；/n升降放取机构包括支撑座及置于支撑座上的支撑底板，且支撑底板与支撑座沿水平方向滑动配合；/n支撑底板上方还设有用于放置沉积物的石英钟罩，石英钟罩随同支撑底板沿水平方向抽拉，并实现石英钟罩伴随支撑底板在竖直方向上的升降。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
