[实用新型]一种蒸发溅射两用真空镀膜机有效
| 申请号： | 201920313497.0 | 申请日： | 2019-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN209778983U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 潘燕萍;朱海军 | 申请（专利权）人： | 常州市乐萌压力容器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/26 |
| 代理公司： | 32294 常州市华信天成专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 何学成 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种蒸发溅射两用真空镀膜机。该真空镀膜机具有设置有通孔的机架，所述机架内设置有基片架，还包括蒸发装置、磁控溅射装置、真空系统和控制系统；所述蒸发装置包括设置在基片架下方的蒸发基片架和蒸发源，蒸发源与蒸发基片架间设置有挡板，挡板设在挡板转动杆上；所述磁控溅射装置包括靶体、溅射基片架和设置在挡板转动杆上的预溅射挡板；基片架一端还设置有传动杆，相邻磁控溅射装置间设置有升降式挡板和真空机械手。该种蒸发溅射两用真空镀膜机，可根据工艺要求选择真空蒸发或磁控溅射镀膜的方式；其中磁控镀膜单靶单腔，避免靶基之间的污染问题，同时采用高真空机械手进行传送片，减少了工艺腔室真空破坏，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基片架 挡板 磁控溅射装置 真空镀膜机 蒸发 溅射 蒸发装置 蒸发源 转动杆 磁控溅射镀膜 本实用新型 升降式挡板 真空机械手 磁控镀膜 工艺腔室 工艺要求 工作效率 控制系统 污染问题 真空破坏 真空系统 机械手 传动杆 高真空 预溅射 靶基 靶体 单靶 单腔 通孔 传送 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发溅射两用真空镀膜机，具有设置有通孔(18)的机架(19)，所述机架(19)内设置有基片架(6)，其特征在于：还包括蒸发装置、磁控溅射装置、真空系统和控制蒸发装置、磁控溅射装置、真空系统工作的控制系统(21)；/n所述蒸发装置包括蒸发基片架(4)、蒸发源(1)，所述蒸发基片架(4)设置在基片架(6)下方，所述蒸发基片架(4)内设置有加热丝一(5)，所述蒸发源(1)设置在蒸发基片架(4)下方的机架(19)上，蒸发源(1)与蒸发基片架(4)之间设置有挡板(2)，所述挡板(2)设在挡板转动杆(3)上；/n所述磁控溅射装置包括靶体(8)、溅射基片架(9)，所述溅射基片架(9)内设置有加热丝二(10)，所述溅射基片架(9)和靶体(8)间设置有预溅射挡板(7)，所述预溅射挡板(7)设置在挡板转动杆(3)上；所述基片架(6)一端还设置有传动杆(16)，所述传动杆(16)与基片架(6)连接处设置有基片架旋转轮圈(17)；/n所述真空系统包括连接在通孔的真空泵(20)。/n
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