[实用新型]一种78对棒多晶硅还原炉

摘要

本新型提供的78对棒多晶硅还原炉，其包括：包括：裙座1、底盘座2、炉体进气管路3、炉体4、夹套5、炉体冷却水出口6、硅芯7、视镜8、炉体冷却水进口9、底盘进气管路10、底盘排气管路11、底盘冷却水出口管12、电极座13、底盘冷却水进口管14组成。气体浓度分布调节管路系统，包括一注入反应气体的炉体进气管路3以及注入反应气体的底盘进气管路10；炉体进气管路3用以使所述反应气体自上而下进入所述反应腔体内；所述底盘进气管路使得所述反应气体自下而上进入所述反应腔体内；在两管路的共同调节下均匀分布在该硅芯7周围，提高了硅棒上部区域的生长速率，与硅棒下部的生长速率相当，保证了硅棒的均匀性，提高了产品质量。

主权项

1.一种78对棒多晶硅还原炉，其特征在于，包括：一炉体，内设有反应腔体，硅芯位于所述反应腔体内；一底盘座，位于所述炉体底部且与所述反应腔体连接，所述底盘座上设有多个进气口、多个排气管口和78对电极座，所述硅芯与所述电极座电性连接；一气体浓度分布调节管路系统，包括一注入反应气体的炉体进气管路以及注入反应气体的底盘进气管路；所述炉体进气管路与所述反应腔体连通，且所述炉体进气管路的出气口位于所述硅芯的上部位置，用以使所述反应气体自上而下进入所述反应腔体内；所述底盘进气管路，具有多个进气支管，每一所述进气支管与所述进气口对应连接，所述进气口与所述反应腔体连通，所述底盘进气管路使得所述反应气体自下而上进入所述反应腔体内；所述反应气体在所述炉体进气管路和所述底盘进气管路共同调节下均匀分布在所述硅芯周围；一底盘排气管路，具有多个排气支管，每一所述排气支管与所述排气管口对应连接，所述排气管口与所述反应腔体连通；一冷却水腔体，设置在所述底盘座上，用于对所述底盘座降温，所述冷却水腔体具有一底盘冷却水出口管和一底盘冷却水进口管，所述底盘冷却水进口管与所述底盘排气管路套接连接，所述底盘排气管路套设在所述冷却水进口管内用于对所述底盘排气管路降温。