[实用新型]一种对真空环境有效密封的MPCVD装置有效
申请号: | 201920360861.9 | 申请日: | 2019-03-21 |
公开(公告)号: | CN209652424U | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | 闫宁;吴啸;郭兴星;范波;蔡玉珺;常豪峰;徐帅 | 申请(专利权)人: | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/513;C23C16/517 |
代理公司: | 41104 郑州联科专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 王聚才<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 450001 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型涉及微波等离子体化学气相沉积技术领域,具体公开了一种对真空环境有效密封的MPCVD装置,包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔,在底板与上盖板的连接处通过O型密封圈组进行密封,在底板上与环形泄气通道相对应的圆周上设有第一通气孔,所述第一通气孔的上端与环形泄气通道连接,第一通气孔的下端通过第一出气管与抽真空装置连接。本实用新型能有效隔离外界空气,维持了反应腔内真空工作环境,有效降低了本类型MPCVD设备的真空漏率,最终实现反应腔与外部空气有效隔离,为制备高品质产品提供了有利保障,提高了微波等离子体化学气相沉积产品质量,满足科研和工业化生产需求。 | ||
搜索关键词: | 底板 反应腔 通气孔 微波等离子体化学气相沉积 本实用新型 泄气通道 有效隔离 上盖板 真空工作环境 抽真空装置 高品质产品 外部空气 外界空气 有效密封 真空环境 出气管 上端 漏率 下端 制备 密封 科研 | ||
【主权项】:
1.一种对真空环境有效密封的MPCVD装置,包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔,在上盖板的顶部设置有进气口,在底板上设置有抽气口,所述抽气口接入抽真空装置,将反应腔抽为真空环境;还包括沉积台和微波石英窗,微波石英窗为圆环形,设于沉积台与底板之间,通过微波石英窗将反应腔与外界空气隔离,其特征在于,在底板与上盖板的连接处通过O型密封圈组进行密封,所述O型密封圈组包括呈同心圆设置的外密封圈及内密封圈,所述O型密封圈组设于底板上的第一密封槽内,两圈第一密封槽间通过环形泄气通道相连通,在底板上与环形泄气通道相对应的圆周上设有第一通气孔,所述第一通气孔的上端与环形泄气通道连接,第一通气孔的下端与第一出气管连接,第一出气管下部与抽真空装置连接。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的