[实用新型]一种真空蒸镀装置有效
申请号: | 201920418628.1 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN209836289U | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 刘昕;江社明;仲海峰;习中革;李远鹏;张杰;邱肖盼;张子月;张启富 | 申请(专利权)人: | 新冶高科技集团有限公司;北京钢研新冶工程设计有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 11386 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 丛洪杰;和欢庆 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种真空蒸镀装置,属于真空蒸镀技术领域,解决了现有技术中蒸镀材料利用率低、镀层附着力小以及无法精确控制膜厚的问题。蒸镀装置,包括真空腔、熔融单元、蒸气输送单元和喷射单元,熔融单元通过蒸气输送单元和喷射单元连接;熔融单元包括熔融腔,蒸气输送单元包括蒸气腔,蒸气输送单元包括蒸气腔,喷射单元包括喷射腔和喷嘴;从熔融腔至喷射腔方向,蒸气腔的横截面面积逐渐减小;喷嘴包括用于向试样镀膜的喷气口;蒸气腔顶部的横截面面积大于喷气口处的横截面面积;试样在真空腔内完成镀膜。本实用新型实现了对蒸镀材料的高效利用,并且提高了镀膜的致密性。 | ||
搜索关键词: | 蒸气输送 蒸气腔 喷射单元 镀膜 熔融 本实用新型 喷嘴 喷气口 喷射腔 熔融腔 真空腔 蒸镀材料利用率 真空蒸镀技术 真空蒸镀装置 镀层附着力 高效利用 蒸镀材料 蒸镀装置 逐渐减小 控制膜 致密性 | ||
【主权项】:
1.一种真空蒸镀装置,其特征在于,包括真空腔、熔融单元、蒸气输送单元和喷射单元,所述熔融单元通过所述蒸气输送单元和所述喷射单元连接;/n所述熔融单元包括熔融腔,所述蒸气输送单元包括蒸气腔,所述蒸气输送单元包括蒸气腔,所述喷射单元包括喷射腔和喷嘴;/n从所述熔融腔至所述喷射腔方向,所述蒸气腔的横截面面积逐渐减小;/n所述喷嘴包括用于向试样镀膜的喷气口;所述蒸气腔顶部的横截面面积大于所述喷气口处的横截面面积;/n试样在真空腔内完成镀膜。/n
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