[实用新型]一种多场辅助超微射流加工装置有效
| 申请号： | 201920426757.5 | 申请日： | 2019-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN209698837U | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 刘强;崔明明;周晓勤;许蓬子;陈震;王洪德;张旭 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | B24C3/04 | 分类号： | B24C3/04;B24C9/00;B24C7/00;B24C11/00 |
| 代理公司： | 22100 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 | 代理人： | 魏征骥<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种多场辅助超微射流加工装置，属于超微射流加工装置。运动控制系统固定连接在框架支撑系统的底部，多相射流聚焦喷射系统,闭环稳压控制系统和多场辅助系统分别安装在框架支撑系统上，闭环稳压控制系统通过多场辅助系统与多相射流聚焦喷射系统连接。优点是结构新颖，磨料浆体通过保护液体的压缩，保护液体再经过高压气体的压缩，使磨料浆体直径减小，使得射流加工的直径小于喷嘴的直径，提高加工精度的同时又有效的减少喷嘴的磨损，通过旋转磁场作用磨料浆体，磨料浆体的磁性磨粒会旋转起来，提高了射流的加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 磨料浆体 射流加工 稳压控制系统 闭环 多相射流 辅助系统 框架支撑 喷射系统 喷嘴 超微 聚焦 运动控制系统 本实用新型 磁性磨粒 高压气体 加工效率 旋转磁场 直径减小 压缩 射流 磨损 加工 | ||
【主权项】：
1.一种多场辅助超微射流加工装置，其特征在于：包括运动控制系统，多相射流聚焦喷射系统,闭环稳压控制系统，多场辅助系统及框架支撑系统，其中运动控制系统固定连接在框架支撑系统的底部，多相射流聚焦喷射系统,闭环稳压控制系统和多场辅助系统分别安装在框架支撑系统上，闭环稳压控制系统通过多场辅助系统与多相射流聚焦喷射系统连接。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉林大学，未经吉林大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920426757.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种轴承喷沙打磨机械装置
- 下一篇：一种石材加工用喷砂机
