[实用新型]高密度电浆化学气相沉积设备及其射频电源机柜有效
申请号: | 201920429399.3 | 申请日: | 2019-04-01 |
公开(公告)号: | CN209974887U | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 洪再和 | 申请(专利权)人: | 呈睿国际股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505 |
代理公司: | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁挥;王馨仪 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开一种高密度电浆化学气相沉积设备及其射频电源机柜,该高密度电浆化学气相沉积设备包含有多个反应腔体,各反应腔体与对应的射频电源机柜内设置的多个切换式射频电源供应器电性连接;各该切换式射频电源供应器各自连接市电交流电源,不必在机壳内额外设置交直流转换器,节省空间;加上各该切换式射频电源供应器以脉宽调变技术将市电交流电源转换为射频电源,可以一般功率晶体管取代真空管的使用,体积及成本得以下降;因免除真空管的使用,各该射频电源供应器在待机时间不必持续供电预热真空管,可提高整体电源转换率。 | ||
搜索关键词: | 射频电源供应器 真空管 射频电源 切换式 高密度电浆化学气相沉积 市电交流电源 反应腔体 机柜 交直流转换器 本实用新型 功率晶体管 持续供电 电性连接 节省空间 脉宽调变 整体电源 转换率 预热 待机 转换 | ||
【主权项】:
1.一种高密度电浆化学气相沉积设备,其特征在于,包括:/n多个反应腔体;以及/n多个射频电源机柜,分别电性连接至该多个反应腔体,提供射频电源予各该反应腔体;其中各该射频电源机柜包含有:/n一机壳;以及/n多个切换式射频电源供应器,容置于该机壳内,并分别电性连接于市电交流电源与该多个反应腔体之间,将该市电交流电源予以脉宽调变并转换为一射频电源后,传送至对应的该反应腔体。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的