[实用新型]一种曝光机框架上料机构有效
申请号: | 201920496050.1 | 申请日: | 2019-04-12 |
公开(公告)号: | CN210339421U | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 郭家宝;邱田生 | 申请(专利权)人: | 东莞市多普光电设备有限公司 |
主分类号: | B65G47/22 | 分类号: | B65G47/22;B65G43/00;B65G47/88;B65G43/08;B65G47/74 |
代理公司: | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 李迪 |
地址: | 523841 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种曝光机框架上料机构,包括机架和下框模块,所述的下框模块的上方配合有放料装置,所述的放料装置配合有进料输送装置,所述的放料装置包括设置在机架上的放料安装架,所述的放料安装架上设置有能够同步相向或背向移动的两块居中卡块,且居中卡块活动走向与进料输送装置的输送方向垂直,两块居中卡块的内侧设置有与进料输送装置输送方向一致的放料输送装置,所述的下框模块包括下框主体,所述的下框主体的下方设置有能够穿过下框主体的下框接料装置,本实用新型的目的是提供一种曝光机框架上料机构,采用输送装置配合放料装置,能够平稳的讲产品下落到下框内,如此可对较大尺寸的产品进行放料曝光,避免了掉落的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 曝光 框架 机构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市多普光电设备有限公司,未经东莞市多普光电设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920496050.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:消弧型过电压保护装置
- 下一篇:一种高效高分子材料反应釜