[实用新型]一种辐射成像设备用晶体阵列有效
| 申请号： | 201920502049.5 | 申请日： | 2019-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN209946402U | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 屈春蕾;祁建伟 | 申请（专利权）人： | 无锡通透光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 32262 无锡市朗高知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵华 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种辐射成像设备用晶体阵列，包括光学玻璃、晶体条、紫外胶水层和反射层，光学玻璃上通过紫外胶水层竖直固定有多根晶体条形成晶体阵列，晶体阵列的四周和顶面分别通过紫外胶水层固定粘贴有反射层。本实用新型去掉了晶体条与晶体条之间的反射材料，有效提升了晶体阵列的探测效率；通过晶体与晶体间存在空气这一特性起到光隔离的效果；制作流程相比传统晶体阵列的制作流程大幅简化，有效降低了晶体阵列的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体阵列 胶水层 光学玻璃 本实用新型 反射层 辐射成像设备 反射材料 固定粘贴 竖直固定 探测效率 光隔离 顶面 制作 生产成本 | ||
【主权项】：
1.一种辐射成像设备用晶体阵列，其特征在于，包括光学玻璃(1)、晶体条(2)、紫外胶水层(3)和反射层(4)，所述光学玻璃(1)上通过紫外胶水层(3)竖直固定有多根所述晶体条(2)形成晶体阵列，所述晶体阵列的四周和顶面分别通过紫外胶水层(3)固定粘贴有反射层(4)。/n
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