[实用新型]化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201920514018.1 | 申请日： | 2019-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN210010824U | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 汪康;田得暄;辛君;吴龙江;林宗贤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/34 |
| 代理公司： | 31295 上海思捷知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种化学机械研磨设备，该设备包括研磨台、研磨台支撑部件、挡板以及挡板清洗装置；研磨台设置于研磨台支撑部件上，用于研磨晶圆；挡板围绕研磨台设置并与研磨台相距一预设距离，用于隔挡从研磨台甩出的研磨液；挡板清洗装置设置于所述研磨台支撑部件上，并且挡板清洗装置中的清洁部件位于研磨台和挡板之间，用于清洗挡板，同时，清洁部件还低于研磨台的上表面。本实用新型提供的化学机械研磨设备可以及时清洗挡板。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨台 挡板 清洗装置 支撑部件 化学机械研磨设备 本实用新型 清洁部件 清洗 预设距离 研磨 上表面 研磨液 隔挡 晶圆 甩出 相距 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨设备，其特征在于，所述设备包括研磨台、研磨台支撑部件、挡板以及至少一个挡板清洗装置；/n其中，所述研磨台支撑部件上设置有所述研磨台，所述研磨台用于研磨晶圆；所述挡板围绕所述研磨台设置并与所述研磨台相距一预设距离，用于隔挡从所述研磨台甩出的研磨液；所述挡板清洗装置设置于所述研磨台支撑部件上，并且所述挡板清洗装置中的清洁部件位于所述研磨台和所述挡板之间，用于清洗所述挡板，所述清洁部件低于所述研磨台的上表面。/n
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