[实用新型]一种待极化件、承载台和极化室有效
| 申请号： | 201920521158.1 | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN209729963U | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 陆红卫;王大亮;丁坤宝;埃夫仁;张晓燕;王开安 | 申请（专利权）人： | 奥昱新材料技术(嘉兴)有限公司 |
| 主分类号： | H01L41/257 | 分类号： | H01L41/257 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 王小衡;胡彬<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 314006 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术，尤其涉及一种待极化件、承载台和极化室。所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述基底包括基板、接地电极和接地引脚，所述接地引脚位于基板边缘，所述接地电极包括多个，所述接地电极在基板上间隔排列，所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面，所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。本公开实施例所提供的待极化件、承载台和极化室，实现了快速极化多个极化件的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 极化 接地电极 接地引脚 高分子薄膜 基板 基底 承载台 基板边缘 极化技术 间隔排列 同一表面 暴露 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种待极化件，其特征在于：所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述基底包括基板、接地电极和接地引脚，所述接地引脚位于基板边缘，所述接地电极包括多个，所述接地电极在基板上间隔排列，所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面，所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。/n
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