[实用新型]一种半导体气相沉积装置内壁防护罩旋转吹干治具有效
| 申请号： | 201920539998.0 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN209778973U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 朱光宇;陈智慧;张正伟;李泓波;贺贤汉 | 申请（专利权）人： | 富乐德科技发展(大连)有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/18 | 分类号： | C23C4/18;H01L21/20 |
| 代理公司： | 21235 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 盖小静 |
| 地址： | 116600 辽宁省大连市保税区*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体气相沉积装置内壁防护罩旋转吹干治具，包括:上端盖、底座、中检轴和球形轴承；在上端盖的中部设有卡槽，在上端盖的外周设有一圈漏水通孔；所述底座上设有圆形凸台，在圆形凸台上凹设有安装孔；所述中检轴包括轴本体，在轴本体的一端分布有卡台，所述卡台位于上端盖的卡槽中，轴本体的另一端通过球形轴承与底座上的安装孔相连；在底座的上分布有一圈固定板，每个固定板上设有万向球，所述万向球位于上端盖与底座之间。本申请治具代替了人工搬运来回转动部品，避免了热喷涂面的划伤问题，减轻现场作业强度，提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 上端盖 底座 轴本体 球形轴承 安装孔 固定板 万向球 卡台 治具 防护罩 气相沉积装置 本实用新型 工作效率 来回转动 漏水通孔 人工搬运 现场作业 圆形凸台 热喷涂 部品 吹干 划伤 卡槽 内壁 外周 半导体 申请 | ||
【主权项】：
1.一种半导体气相沉积装置内壁防护罩旋转吹干治具，其特征在于，包括:上端盖、底座、中检轴和球形轴承；在上端盖的中部设有卡槽，在上端盖的外周设有一圈漏水通孔；所述底座上设有圆形凸台，在圆形凸台上凹设有安装孔；所述中检轴包括轴本体，在轴本体的一端分布有卡台，所述卡台位于上端盖的卡槽中，轴本体的另一端通过球形轴承与底座上的安装孔相连；在底座的上分布有一圈固定板，每个固定板上设有万向球，所述万向球位于上端盖与底座之间。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
