[实用新型]一种氮化镓MISHEMT功率器件的结构有效

专利信息
申请号: 201920553600.9 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN211017079U 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 窦祥峰 申请(专利权)人: 窦祥峰
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/417;H01L29/45;H01L23/29;H01L23/31;H01L29/778
代理公司: 北京市京师律师事务所 11665 代理人: 高晓丽
地址: 100096 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种氮化镓MISHEMT功率器件的结构,包括从下至上依次结合在一起的硅基层、氮化镓电路层、氮化镓势垒层、氮化硅介质层,还有高阻区、钛铝合金欧姆沟道、镍/金导电区、第一氮化硅穿透涂层、第一钛/金导电涂层、第二氮化硅穿透涂层、第二钛/金导电涂层、第三氮化硅穿透涂层、源极、栅极、漏极;所述硅基层由低阻硅材料制成;所述氮化镓电路层是外延层;所述的氮化镓MISHEMT功率器件是N型二维电子气沟道,硅基金属氧化物栅极接触高电子迁移率晶体管。该结构的氮化镓MISHEMT功率器件抗辐照能力高,在关态时的泄漏电流低,静态功耗低,辐照情况的失效概率低,承受的击穿电压高。
搜索关键词: 一种 氮化 mishemt 功率 器件 结构
【主权项】:
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