[实用新型]基板清洗装置

摘要

一种基板清洗装置，具备：第1吸附保持部，其吸附基板背面的不与中央部重叠的区域并保持为水平；第2吸附保持部，其吸附基板背面的中央部并保持为水平；第1清洗部件及第2清洗部件，其设置为相互在横方向分离；回转机构，其设置于第1清洗部件及第2清洗部件的下方；升降机构，其设置于回转机构的下方；以及清洗液供给部，其设置于第1清洗部件及第2清洗部件的附近，其中，至少在清洗包含中央部的基板背面的区域时，回转轴配置为位于与基板重叠的位置，第1清洗部件及第2清洗部件配置为：在基板被保持于第2吸附保持部并旋转时，从回转轴观察第2吸附保持部的旋转轴，位于左侧及右侧中的一方侧的第1清洗部件朝向另一方侧回转并移动。

主权项

1.一种基板清洗装置，是清洗圆形的基板背面的基板清洗装置，其特征在于，具备：/n第1吸附保持部，其吸附基板背面的不与中央部重叠的区域并保持为水平，并且能在水平方向上自由移动；/n第2吸附保持部，其吸附基板背面的所述中央部并保持为水平，且能绕垂直轴旋转；/n第1清洗部件及第2清洗部件，其设置为相互在横向分离，在基板被保持于所述第1吸附保持部时，接触并清洗基板背面的包含所述中央部的区域，在基板被保持于所述第2吸附保持部时，接触并清洗基板背面的除所述中央部以外的区域；/n回转机构，其设置于所述第1清洗部件及所述第2清洗部件的下方，在清洗基板背面时，通过共同的回转轴，使所述第1清洗部件及所述第2清洗部件分别在水平方向回转；/n升降机构，其设置于所述回转机构的下方，用来使所述第1清洗部件及所述第2清洗部件升降；以及/n清洗液供给部，其设置于所述第1清洗部件及所述第2清洗部件的附近，在通过所述第1清洗部件及所述第2清洗部件清洗基板背面时，对基板背面供给清洗液，其中，/n至少在清洗基板背面的包含所述中央部的区域时，所述回转轴配置为位于与基板重叠的位置，/n所述第1清洗部件及所述第2清洗部件配置为：在基板被保持于所述第2吸附保持部并旋转时，从所述回转轴观察所述第2吸附保持部的旋转轴，位于左侧及右侧中的一侧的所述第1清洗部件朝向另一侧回转地移动，由此使所述第1清洗部件及所述第2清洗部件清洗基板背面的除所述中央部以外的全部区域。/n