[实用新型]一种可消除声聚焦的气膜馆有效

专利信息
申请号: 201920621603.1 申请日: 2019-05-04
公开(公告)号: CN211473614U 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 俞金祥 申请(专利权)人: 南京百音高科技有限公司;俞金祥
主分类号: E04H15/20 分类号: E04H15/20;E04H3/14;E04B1/82;E04B1/84
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 周蔚然
地址: 210006 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种可消除声聚焦的气膜馆,包括气膜馆本体、侧壁吸音部以及顶部声聚焦消除部;侧壁吸音部安装于气膜馆本体的内部侧壁;顶部声聚焦消除部为呈弧形且透明的声波反向扩散结构,配合安装于气膜馆本体的透明顶部天棚下方。本实用新型在保证气膜馆内部采光效果的基础上,最大限度消除由于弧形顶结构所产生的声聚焦,保证气膜馆内各处的混响时间均能够处于最佳混响时间范围内,有效解决顶部声聚焦的问题。
搜索关键词: 一种 消除 聚焦 气膜馆
【主权项】:
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