[实用新型]反应腔室和镀膜设备有效
| 申请号： | 201920634071.5 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN210420140U | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 张兴;孙红霞;潘世荣;李建勇 | 申请（专利权）人： | 领凡新能源科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京智晨知识产权代理有限公司 11584 | 代理人： | 张婧 |
| 地址： | 101407 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种采用磁控溅射镀膜的反应腔室和镀膜设备,用以减少阳极消失、靶溅射不均匀等原因引起的成膜问题。其中该反应腔室包括：腔室本体；设置于腔室本体内2+2n个靶，n为大于等于0的整数；中频电源，与相同的2个靶电连接，其中：连接同一中频电源的两个靶构成孪生靶；第一驱动装置和第二驱动装置，分别连接一对孪生靶中的一个靶的转轴，孪生靶中的一个沿第一方向旋转，孪生靶中的另一个沿第二方向旋转，第一方向和第二方向相反。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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