[实用新型]涂胶单元以及涂胶显影系统有效
| 申请号： | 201920651509.0 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN209946631U | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 李明欣;朱成云;古哲安;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 31295 上海思捷知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种涂胶单元以及涂胶显影系统，所述涂胶单元包括工艺箱体、载片台、压力监测装置和通风系统，所述通风系统包括供风系统和排风系统，所述工艺箱体包括开口和排风口，所述工艺箱体内部设有所述压力监测装置。光阻在旋涂的过程中，所述压力监测装置对所述工艺箱体内部的压力进行实时监测，可以及时发现所述工艺箱体内部的压力异常，有助于提高光阻厚度的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 压力监测装置 箱体内部 通风系统 涂胶单元 光阻 本实用新型 供风系统 排风系统 实时监测 显影系统 压力异常 均匀性 排风口 载片台 涂胶 旋涂 开口 发现 | ||
【主权项】：
1.一种涂胶单元，其特征在于，包括工艺箱体、用于承载基底的载片台、压力监测装置和通风系统，所述载片台设置于所述工艺箱体内，所述工艺箱体具有可供所述基底进出的开口，所述通风系统通过所述开口向所述工艺箱体内通风，所述压力监测装置设置于所述工艺箱体上并用于监测所述工艺箱体内的压力。/n
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