[实用新型]光场强度检测系统有效

专利信息
申请号: 201920661726.8 申请日: 2019-05-09
公开(公告)号: CN210242983U 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 杨爱萍;杜路平;孟繁斐;袁小聪 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G01J1/00 分类号: G01J1/00;G01J1/42
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 袁文英
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种光场强度检测系统,光场强度检测系统包括待测光场产生装置、分离装置以及检测装置。首先,通过介质颗粒对待测光场进行散射,从而实现电场分量和磁场分量的同步表征;然后,通过波导薄膜对散射光中的电场信号和磁场信号进行不同激发角度的辐射,从而对散射光中的电场信号和磁场信号进行分离;最后,采集电场信号和磁场信号,并且生成相应的电场强度分布图和磁场强度分布图。通过实现待测光场中的电场信号和磁场信号的同步表征,拓展了光场信息表征的维度,促进了人们对光场本质的认识,也提供了新的光场信息获取手段,因此,在纳米尺度下的光与物质相互作用以及超分辨信息处理等研究领域有十分重要的应用价值。
搜索关键词: 强度 检测 系统
【主权项】:
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