[实用新型]低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置有效
申请号: | 201920669084.6 | 申请日: | 2019-05-10 |
公开(公告)号: | CN209974885U | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 葛怀庆;练菊;房如枫;彭为报;王红美;孙嵩泉 | 申请(专利权)人: | 普乐新能源(蚌埠)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 34102 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 王琪;和聚龙 |
地址: | 233030 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本实用新型给出了一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置,包括补气管,补气管端部开有补气口;还包括冷却管和堵头,冷却管设有供冷却介质通过的内孔,冷却管在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段,处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙,堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。冷却管通入冷却气体,进而导流弹簧段的冷却管对补气管进行冷却,将补气管温度下降,镀膜反应气体的温度控制在反应温度以下,反应物不会沉积在补气管的管壁及补气口处;处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间设有间隙,镀膜反应气体通过该间隙,达到出气缝的效果,提高镀膜工件的膜层均匀度。 | ||
搜索关键词: | 冷却管 补气管 弹簧段 导流 反应气体 补气口 堵头 镀膜 低压化学气相沉积 本实用新型 膜层均匀度 真空管式炉 补气装置 出气口处 镀膜工件 冷却介质 冷却气体 出气缝 导流段 多线圈 反应物 盘绕 管壁 节距 内孔 沉积 冷却 | ||
【主权项】:
1.一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置,包括补气管,补气管端部开有补气口,其特征为:/n还包括冷却管和堵头,冷却管设有供冷却介质通过的内孔,冷却管至少在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段,处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙,堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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