[实用新型]一种光刻工艺单元装置和光刻系统有效
| 申请号： | 201920670934.4 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN209657082U | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 张卢建;魏少琦 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/42 |
| 代理公司： | 11659 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张海英<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种光刻工艺单元装置和光刻系统。所述光刻工艺单元装置包括：至少两个联线作业的工艺腔室，至少一个所述工艺腔室包括基板支撑组件、第一喷淋组件和第二喷淋组件；所述第一喷淋组件和所述第二喷淋组件的喷淋方向均朝向所述基板支撑组件；工艺控制模块和宕机控制模块，所述工艺控制模块与所述第一喷淋组件电连接，所述宕机控制模块与所述第二喷淋组件电连接。与现有技术相比，本实用新型实施例降低了光刻工艺单元装置在宕机时基板的报废率。 | ||
| 搜索关键词： | 喷淋组件 单元装置 光刻工艺 工艺控制模块 基板支撑组件 本实用新型 工艺腔室 控制模块 电连接 宕机 光刻系统 联线作业 报废率 基板 喷淋 | ||
【主权项】：
1.一种光刻工艺单元装置，其特征在于，包括：/n至少两个联线作业的工艺腔室，至少一个所述工艺腔室包括基板支撑组件、第一喷淋组件和第二喷淋组件；所述第一喷淋组件和所述第二喷淋组件的喷淋方向均朝向所述基板支撑组件；/n工艺控制模块和宕机控制模块，所述工艺控制模块与所述第一喷淋组件电连接，所述宕机控制模块与所述第二喷淋组件电连接。/n
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