[实用新型]一种采用非球面的高均匀高分辨纹影光学系统有效
| 申请号： | 201920703040.0 | 申请日： | 2019-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN210005208U | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 赵卫;陈磊;谢永军;朱涛;徐崧博;许晓斌;屈恩世;章起华;解滨;马晓宇;孙启志;彭龙辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所;中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 |
| 主分类号： | G01M9/04 | 分类号： | G01M9/04;G02B17/06;G02B27/00 |
| 代理公司： | 61211 西安智邦专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郑丽红 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种采用非球面的高均匀高分辨纹影光学系统，解决现有纹影系统均匀性和分辨率不高的问题。该系统包括光源系统、密封前观察窗、准直主反射镜、纹影系统、纹影主反射镜、密封后观察窗和成像系统；纹影系统包括依次设置的密封前纹影镜筒、试验舱、密封后纹影镜筒；密封前观察窗设置在密封前纹影镜筒的侧面，密封后观察窗设置在密封后纹影镜筒的侧面；准直主反射镜和纹影主反射镜均采用非球面反射镜；成像系统为长焦成像系统；光源系统发出的光线穿过密封前观察窗入射到准直主反射镜，经过准直主反射镜后的光线经过密封前纹影镜筒进入试验舱入射到纹影主反射镜，纹影主反射镜将光线反射，通过密封后观察窗后入射到成像系统。 | ||
| 搜索关键词： | 纹影 密封 主反射镜 镜筒 成像系统 准直 后观察窗 前观察窗 入射 光源系统 试验舱 非球面反射镜 本实用新型 系统均匀性 光线反射 光学系统 依次设置 侧面 分辨率 高分辨 长焦 非球 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种采用非球面的高均匀高分辨纹影光学系统，其特征在于：包括光源系统、密封前观察窗(5)、准直主反射镜(6)、纹影系统、纹影主反射镜(10)、密封后观察窗(11)和成像系统；/n所述纹影系统包括依次设置的密封前纹影镜筒(7)、试验舱(8)、密封后纹影镜筒(9)；所述密封前观察窗(5)设置在密封前纹影镜筒(7)的侧面，所述密封后观察窗(11)设置在密封后纹影镜筒(9)的侧面；/n所述准直主反射镜(6)和纹影主反射镜(10)均采用非球面反射镜；/n所述成像系统为长焦成像系统；/n所述光源系统发出的光线穿过密封前观察窗(5)入射到准直主反射镜(6)，经过准直主反射镜(6)准直后的光线经过密封前纹影镜筒(7)进入试验舱(8)，经过试验舱(8)气流后通过密封后纹影镜筒(9)入射到纹影主反射镜(10)，纹影主反射镜(10)将光线反射，通过密封后观察窗(11)后入射到成像系统。/n
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