[实用新型]光线控制装置、像源、投影幕布、投影系统和成像系统有效
| 申请号： | 201920712194.6 | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN210666314U | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 吴慧军;徐俊峰;方涛 | 申请（专利权）人： | 未来（北京）黑科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/60 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种光线控制装置、被动发光像源、投影幕布和成像系统，其中，该光线控制装置包括：光线控制装置，包括：光线汇聚元件和弥散元件；所述弥散元件设置在光线汇聚元件上；当有光线入射时，光线汇聚元件将光线沿所述光线的入射方向的相反方向反射至弥散元件；弥散元件将入射的光线扩散并形成光斑。通过本实用新型实施例提供的光线控制装置、被动发光像源、投影幕布和成像系统，可以提高光线的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 光线 控制 装置 投影 幕布 系统 成像 | ||
【主权项】：
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