[实用新型]一种直拉硅晶体生长热场结构有效

专利信息
申请号: 201920721779.4 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN210085617U 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 高宇;胡建荣;傅林坚;其他发明人请求不公开姓名 申请(专利权)人: 浙江晶盛机电股份有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 周世骏
地址: 312300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本实用新型专利涉及直拉硅单晶生长领域,具体涉及一种直拉硅晶体生长热场结构。包括电极座和多个加热器组件;加热器组件在竖直方向呈S形连续折返结构,其水平方向截面形状呈圆弧形,每个加热器组件的首尾两端分别接至一个电极座;多个加热器组件之间通过电极座首尾相连,组成一个圆环形的热场结构。本实用新型加热器由整体圆改为1/4圆弧或1/2圆弧,减少对石墨原材料尺寸要求;加热器局部损坏后可通过更换单个组建恢复使用,降低使用成本;更改为1/4圆弧或1/2圆弧后原料利用率提高,采购成本降低。
搜索关键词: 一种 直拉硅 晶体生长 结构
【主权项】:
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