[实用新型]一种新型多弧离子靶的磁环装置有效

专利信息
申请号: 201920722146.5 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN210314465U 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 成林 申请(专利权)人: 昆山浦元真空技术工程有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了种新型多弧离子靶的磁环装置,包括抽气口,所述抽气口的下端设置有真空腔体,所述真空腔体的内部设置有工作转架,所述真空腔体的两侧外表面分别设置有水平的靶筒,所述靶筒的竖直外侧靠近真空腔体的水平外侧表面设置有环形的磁环,所述真空腔体的两侧设置有多弧靶,所述多弧靶的内侧设置有靶材,所述真空腔体的两侧靠近多弧靶的下方贯穿设置有引弧装置。本实用新型所述的一种新型多弧离子靶的磁环装置,设有磁环、多弧靶与引弧装置,装置制作简单、成本低廉,而且可以使多弧离子靶长时间稳定工作、沉积的膜层品质高,这种新型多弧离子靶的磁环装置将会带来更好的使用前景。
搜索关键词: 一种 新型 离子 装置
【主权项】:
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