[实用新型]一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置有效
| 申请号： | 201920779446.7 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN210001863U | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 张薇薇 | 申请（专利权）人： | 甘肃中医药大学 |
| 主分类号： | C12M1/24 | 分类号： | C12M1/24;C12M1/04;C12N1/20 |
| 代理公司： | 11569 北京高沃律师事务所 | 代理人： | 瞿晓晶 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，属于趋磁细菌培养技术领域。本实用新型所述控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。本实用新型所述装置简单易操作，不但能满足趋磁细菌生长环境中微需氧的要求，而且还可以保证操作过程中细菌不易受到污染。该装置成本低廉，简单易行。 | ||
| 搜索关键词： | 趋磁细菌 本实用新型 活塞 过气管 气体源 注射器 去除 西林瓶 进气口 操作过程 生长环境 装置成本 出气口 氮气源 氧气源 需氧 针头 填充 细菌 棉花 污染 保证 | ||
【主权项】：
1.一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，其特征在于，所述装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。/n
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