[实用新型]一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘有效
申请号: | 201920861749.3 | 申请日: | 2019-06-10 |
公开(公告)号: | CN210171733U | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | 金光国;赵梁玉 | 申请(专利权)人: | 苏州麦田光电技术有限公司 |
主分类号: | B05B3/10 | 分类号: | B05B3/10;B05B13/02;B05B15/55;B05B12/16;B05B15/00 |
代理公司: | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人: | 李思奇 |
地址: | 215006 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘属于微纳光学元件生产设备领域。该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴。承片托盘内部径向方向开设斜向上管道,用于喷射清洗液,承片托盘在旋转过程中能够对保护罩侧壁进行充分清洗;清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管;清洗液管与承片托盘底部相连。保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形,用于改变光刻胶溅射方向,解决胶面彗尾等问题;承片托盘内部开设斜向上清洗液通道用于喷涂清洗液,全面清洗保护罩内壁;保护罩底部侧壁为圆弧斜坡形,易于排出清洗后废液,操作简单。整个装置复杂度低,成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 一种 清洁 涂胶 装置 用承片 托盘 | ||
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