[实用新型]一种带有电加速与偏转功能的金刚石膜制备装置有效
申请号: | 201920900222.7 | 申请日: | 2019-06-16 |
公开(公告)号: | CN210065912U | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 解海卿;郝昕曈;姚芳;郝晋青 | 申请(专利权)人: | 太原师范学院 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/455;C23C16/50;C23C16/54 |
代理公司: | 14112 太原新航路知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 王勇 |
地址: | 030619 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本实用新型涉及金刚石膜的制备技术,具体是一种带有电加速与偏转功能的金刚石膜制备装置。本实用新型解决了采用热丝化学气相沉积法大面积制备金刚石膜时制备质量和速度受限的问题。一种带有电加速与偏转功能的金刚石膜制备装置,包括圆筒形反应室、外层水管、圆饼形载台、内层水管、径向支撑杆、圆饼形水冷腔、圆形绝缘板、圆形绝缘格栅、扇形钼板、热丝阵列、下圆形大导电栅网、上圆形大导电栅网、喇叭形导气罩、U形导气管、下圆形小导电栅网、上圆形小导电栅网、放电针、接地针、抽气孔、矩形窗孔、第一至第八电源。本实用新型适用于金刚石膜的大面积制备。 | ||
搜索关键词: | 金刚石膜 导电栅网 制备 本实用新型 偏转 制备装置 圆饼形 热丝化学气相沉积法 喇叭形导气罩 圆筒形反应室 径向支撑杆 圆形绝缘板 矩形窗孔 绝缘格栅 热丝阵列 速度受限 外层水管 抽气孔 放电针 接地针 水冷腔 内层 载台 钼板 水管 电源 | ||
【主权项】:
1.一种带有电加速与偏转功能的金刚石膜制备装置,其特征在于:包括圆筒形反应室(1)、外层水管(2)、圆饼形载台(3)、内层水管(4)、径向支撑杆(5)、圆饼形水冷腔(6)、圆形绝缘板(7)、圆形绝缘格栅(8)、扇形钼板(9)、热丝阵列(10)、下圆形大导电栅网(11)、上圆形大导电栅网(12)、喇叭形导气罩(13)、U形导气管(14)、下圆形小导电栅网(15)、上圆形小导电栅网(16)、放电针(17)、接地针(18)、抽气孔(19)、矩形窗孔(20)、第一至第八电源;/n圆筒形反应室(1)的下端和上端均设有端壁;圆筒形反应室(1)的下端壁中央贯通开设有下装配孔;圆筒形反应室(1)的上端壁贯通开设有两个左右对称的上装配孔;外层水管(2)的外侧面下端与下装配孔的孔壁固定配合;圆饼形载台(3)为空心结构,且圆饼形载台(3)的下端壁中央贯通开设有出水孔;圆饼形载台(3)的下外端面内边缘固定支撑于外层水管(2)的上端面;内层水管(4)穿设于外层水管(2)的内腔,且内层水管(4)的轴线与外层水管(2)的轴线重合;内层水管(4)的外侧面与外层水管(2)的内侧面之间留有出水间隙;内层水管(4)的下端面与外层水管(2)的下端面齐平;内层水管(4)的上端面超出圆饼形载台(3)的下内端面;径向支撑杆(5)的数目为多根;各根径向支撑杆(5)的内端面均与内层水管(4)的外侧面固定;各根径向支撑杆(5)的外端面均与外层水管(2)的内侧面固定;各根径向支撑杆(5)沿周向等距排列;圆饼形水冷腔(6)位于圆饼形载台(3)的内腔;圆饼形水冷腔(6)的下外端面与圆饼形载台(3)的下内端面之间、圆饼形水冷腔(6)的上外端面与圆饼形载台(3)的上内端面之间、圆饼形水冷腔(6)的外侧面与圆饼形载台(3)的内侧面之间均留有冷却间隙;圆饼形水冷腔(6)的下端壁中央贯通开设有进水孔;圆饼形水冷腔(6)的上端壁贯通开设有多个喷水孔;圆饼形水冷腔(6)的下外端面内边缘固定支撑于内层水管(4)的上端面;圆形绝缘板(7)的下端面与圆饼形载台(3)的上外端面接触,且圆形绝缘板(7)的轴线与圆饼形载台(3)的轴线重合;圆形绝缘格栅(8)包括圆环形筋板和三个径向筋板;三个径向筋板沿周向等距排列;三个径向筋板的内端面固定在一起;三个径向筋板的外端面均与圆环形筋板的内侧面固定;圆环形筋板和三个径向筋板共同围成三个扇形栅孔;圆环形筋板的下端面和三个径向筋板的下端面均与圆形绝缘板(7)的上端面固定,且圆环形筋板的轴线与圆形绝缘板(7)的轴线重合;扇形钼板(9)的数目为三个;三个扇形钼板(9)一一对应地嵌装于三个扇形栅孔内;热丝阵列(10)水平安装于圆筒形反应室(1)的内腔,且热丝阵列(10)位于三个扇形钼板(9)的上方;/n下圆形大导电栅网(11)的侧面与圆筒形反应室(1)的内侧面固定配合,且下圆形大导电栅网(11)位于热丝阵列(10)的上方;上圆形大导电栅网(12)的侧面与圆筒形反应室(1)的内侧面固定配合,且上圆形大导电栅网(12)位于下圆形大导电栅网(11)的上方;喇叭形导气罩(13)的细端朝上、粗端朝下;喇叭形导气罩(13)的下端敞口边沿与圆筒形反应室(1)的内侧面密封固定,且喇叭形导气罩(13)位于上圆形大导电栅网(12)的上方;U形导气管(14)的两个侧边分别固定贯穿两个上装配孔,且U形导气管(14)的两个管口均朝上;U形导气管(14)的底边中央贯通开设有朝下的导气孔,且导气孔与喇叭形导气罩(13)的上端敞口密封连通;下圆形小导电栅网(15)的侧面与U形导气管(14)的左侧边内侧面固定配合;上圆形小导电栅网(16)的侧面与U形导气管(14)的左侧边内侧面固定配合,且上圆形小导电栅网(16)位于下圆形小导电栅网(15)的上方;放电针(17)的数目为多根;各根放电针(17)均垂直固定于上圆形小导电栅网(16)的下端面;接地针(18)的数目为两排;每排接地针(18)均包括多根接地针(18);两排接地针(18)相互正对地垂直固定于U形导气管(14)的左侧边内侧面,且两排接地针(18)均位于上圆形小导电栅网(16)的上方;抽气孔(19)贯通开设于圆筒形反应室(1)的侧壁,且抽气孔(19)位于圆饼形载台(3)的下方;矩形窗孔(20)贯通开设于圆筒形反应室(1)的侧壁;矩形窗孔(20)的上孔壁高于热丝阵列(10);矩形窗孔(20)的下孔壁与圆饼形载台(3)的上外端面齐平;矩形窗孔(20)上安装有矩形透明窗门;/n第一电源的两极分别与热丝阵列(10)的两个电源端连接;第二至第八电源均为直流电源;第二电源的正极与上圆形小导电栅网(16)连接;第二电源的负极、第三电源的正极均与下圆形小导电栅网(15)连接;第三电源的负极、第四电源的正极均与上圆形大导电栅网(12)连接;第四电源的负极、第五电源的正极均与下圆形大导电栅网(11)连接;第五电源的负极、第六电源的正极、第七电源的正极、第八电源的正极均与热丝阵列(10)的其中一个电源端连接;第六电源的负极、第七电源的负极、第八电源的负极分别与三个扇形钼板(9)连接;两排接地针(18)均接地。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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