[实用新型]浅基坑多排同步升降的合唱舞台有效

专利信息
申请号: 201920948010.6 申请日: 2019-06-21
公开(公告)号: CN210370056U 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 裘国梁;裘金婧;张建;蒋琪;陈灿 申请(专利权)人: 杭州光圣舞台设备开发有限公司
主分类号: E04H3/24 分类号: E04H3/24;E04H3/26;E04H3/28
代理公司: 杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 代理人: 刘晓阳
地址: 310000 浙江省杭州市上*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开一种浅基坑多排同步升降的合唱舞台,包括基坑,台体钢架,其特征是台体钢架与基坑之间设有若干处水平移动起顶机构,水平移动起顶机构包括设置在台体钢架站立平台底面部位、保持台体钢架平衡的若干点位支撑脚,支撑脚上设有滚轮;在基坑底部设有移动驱动机构,移动驱动机构通过齿轮齿条啮合带动与台体钢架数量相等、平行布置的楔形块组,每件楔形块具有倾斜顶面,顶面上设有与滚轮配合的导槽;楔形块组高度成等差排列;在若干件台体钢架底面上还设有垂直约束轮机构。整个台体钢架所需安装高度小,满足浅基坑升降舞台要求,且单一驱动,多排站立平台同步动作,自行形成等差阶梯,平稳安全。
搜索关键词: 基坑 同步 升降 合唱 舞台
【主权项】:
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